英偉達秘密研發(fā)四年，面向芯片制造業(yè)推出突破性的光刻計算庫cuLitho，將計算光刻加速40倍以上，使得2nm及更先進芯片的生產(chǎn)成為可能。全球最大晶圓廠臺積電、全球光刻機霸主阿斯麥、全球最大EDA巨頭新思科技均參與合作并引入這項技術(shù)。

計算光刻是提高光刻分辨率、推動芯片制造達到2nm及更先進節(jié)點的關(guān)鍵手段。

“計算光刻是芯片設(shè)計和制造領(lǐng)域中最大的計算工作負載，每年消耗數(shù)百億CPU小時。”黃仁勛講解道，“大型數(shù)據(jù)中心24x7全天候運行，以便創(chuàng)建用于光刻系統(tǒng)的掩膜板。這些數(shù)據(jù)中心是芯片制造商每年投資近2000億美元的資本支出的一部分?！?/p>

而cuLitho能夠?qū)⒂嬎愎饪痰乃俣忍岣叩皆瓉淼?0倍。老黃說，英偉達H100 GPU需要89塊掩膜板，在CPU上運行時，處理單個掩膜板需要兩周時間，而在GPU上運行cuLitho只需8小時。

此外，臺積電可通過在500個DGX H100系統(tǒng)上使用cuLitho加速，將功率從35MW降至5MW，替代此前用于計算光刻的40000臺CPU服務(wù)器。 使用cuLitho的晶圓廠，每天可以生產(chǎn)3-5倍多的光掩膜，僅使用當前配置電力的1/9。

全球最大晶圓廠臺積電、全球最大光刻機制造商阿斯麥（ASML）、全球最大EDA公司新思科技（Synopsys）都為這項新技術(shù)站臺。老黃透露道，cuLitho歷時四年研發(fā)，與這三家芯片大廠進行了密切合作。臺積電將于6月開始對cuLitho進行生產(chǎn)資格認證。